「正光阻」是指在光刻技術中使用的一種光阻材料，這種材料在曝光後會發生化學反應，從而改變其溶解性。這種材料通常用於製造半導體元件的圖案，特別是在微電子和納米技術領域。正光阻的特點是能夠在紫外光或其他波長的光照射下進行反應，形成所需的圖案，並且在後續的蝕刻或沉積過程中保護下方的材料。
在半導體製造中，光阻材料的主要功能是保護基材並在其上形成圖案。這種材料在光刻過程中被曝光，然後經過顯影處理，留下所需的圖案，這是製造微電子元件的關鍵步驟。光阻可以是正性或負性，根據其對光的反應來決定。
例句 1：
這款新型光阻提高了圖案的解析度。
The new photoresist enhances the resolution of the patterns.
例句 2：
在這個步驟中，我們需要選擇合適的光阻材料。
In this step, we need to choose the appropriate photoresist material.
例句 3：
光阻的選擇對於半導體製造至關重要。
The choice of photoresist is crucial for semiconductor manufacturing.
這類材料在接觸光源時會發生化學變化，通常用於製作圖案或圖像。在藝術和科學中，這類材料也被用於攝影和其他類似技術中。
例句 1：
這種光敏材料可以用於創造獨特的藝術作品。
This light-sensitive material can be used to create unique art pieces.
例句 2：
科學家們正在研究新的光敏材料，以提高效率。
Scientists are researching new light-sensitive materials to improve efficiency.
例句 3：
光敏材料的應用範圍非常廣泛。
The applications of light-sensitive materials are very broad.
此類材料主要用於製造微型電路和其他精密圖案的過程中。光刻技術是當今半導體製造的一個關鍵步驟，涉及到使用這類材料來精確地轉移設計到基材上。
例句 1：
我們需要高品質的光刻材料來確保產品的精確度。
We need high-quality lithography materials to ensure the accuracy of the products.
例句 2：
光刻材料的選擇會直接影響製造過程的效率。
The choice of lithography materials directly affects the efficiency of the manufacturing process.
例句 3：
在這個行業中，光刻材料的創新是非常重要的。
Innovation in lithography materials is very important in this industry.